陶氏化学公司（纽约证交所代码：DOW）昨天宣布陶氏首尔技术中心正式落成。该中心是陶氏化学的全球研发中心，着重推动显示器和半导体相关应用的技术进步，将极大提升陶氏的电子材料产业客户服务能力。
该中心共五层，占地23,700平方米，预计聘用约300人。陶氏化学公司执行副总裁、高新材料事业部总裁兼首席执行官Jerome A. Peribere表示：“这项投资意义重大，因为陶氏一流的技术使电子产品更小巧、运行更迅捷、性能更强大，而且韩国是电子产品市场的全球领导者。这一新的研发中心使我们能够为快速发展的电子产品产业提供更多解决方案，从而更好地服务于韩国乃至全球的客户。”据悉，包括这一新的研发中心在内，陶氏近十年来在韩国投资超过4亿美元，旨在建立半导体、显示器和LED的先进生产基地，并拓展电子材料领域的业务。
陶氏首尔技术中心的研发重点领域包括光刻机、有机发光二极管（OLED）、显示材料、高级芯片封装，全力支持陶氏的业务增长。该中心将成为陶氏OLED研发的全球中心所在，并配备尼康193纳米沉浸式扫描仪和300纳米机台设备，陶氏化学电子材料业务部门因此成为世界上唯一一个在韩国拥有193i应用开发设备的抗光阻供应商。陶氏在韩国天安的设施还拥有一部193纳米的干式扫描仪，这样的投资组合使陶氏极大缩短了产品开发周期和制造时间，从而满足客户的更高要求。
陶氏化学电子材料业务部门集团副总裁、陶氏化学韩国总经理Dominic Yang表示：“从销售到生产再到研发，陶氏现在都已经全面壮大起来。我们为陶氏专家、客户和研发伙伴之间更密切的合作铺平了道路，我们感到非常高兴。”
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